緊湊型、模塊化和智能化CCU-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，通過(guò)簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)✬高性能離子濺射、蒸發(fā)鍍碳和等離子處理✬有的自動(dòng)碳源卷送設(shè)計(jì)–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無(wú)需用戶干預(yù)✬獨(dú)特的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊✬一流的真空性能和快速抽真空✬結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修✬雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品✬主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(zhǎng)連續(xù)運(yùn)行時(shí)間
巧妙的真空設(shè)計(jì)CCU-010 LV精細(xì)真空鍍膜系統(tǒng)為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計(jì)。模塊化的設(shè)計(jì)可將低真空單元后續(xù)很輕松地升為高真空單元。特別選擇和設(shè)計(jì)的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時(shí)間。兩個(gè)附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。
SP-010 & SP-011濺射模塊兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 LV鍍膜主體單元，即可使用。SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動(dòng)冷卻功能，連續(xù)噴涂時(shí)間長(zhǎng)，非常適合需要較厚膜的應(yīng)用。 可選多種濺射靶材，適合SEM等導(dǎo)電薄膜應(yīng)用。SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優(yōu)化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。對(duì)于細(xì)顆粒尺寸鍍膜，推薦使用渦輪泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對(duì)那些比常規(guī)EM應(yīng)用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應(yīng)用時(shí)，推薦使用該濺射頭。
CT-010碳蒸發(fā)模塊緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹(shù)立了新標(biāo)桿。將該頭插入CCU-010 LV鍍膜主體后，即可立即使用，適合SEM等需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場(chǎng)合。CT-010使用歐洲有的、獨(dú)特且技術(shù)先的碳繩卷軸系統(tǒng)，可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜，而無(wú)需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會(huì)自動(dòng)進(jìn)，用過(guò)的碳繩會(huì)掉落到方便的收集盤(pán)中。除了易于使用外，自動(dòng)卷軸系統(tǒng)還允許在一個(gè)鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對(duì)溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜到中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動(dòng)啟動(dòng)擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。
GD-010輝光放電模塊可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)可快速安裝，通過(guò)空氣、氬氣或其它用氣體進(jìn)行表面處理，例如，使碳膜親水。本機(jī)可按順序進(jìn)行碳鍍膜和輝光放電處理，無(wú)需破真空或更換處理頭，大地簡(jiǎn)化了操作過(guò)程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品臺(tái)兼容。
HS-010真空儲(chǔ)存箱HS-010真空儲(chǔ)存箱可在真空條件下存放備用鍍膜頭、備用行星臺(tái)或旋轉(zhuǎn)臺(tái)、所有濺射靶材和碳附件，使它們處于清潔狀態(tài)。通過(guò)集成的真空管路與鍍膜主體單元連接，利用CCU-010抽真空系統(tǒng)對(duì)儲(chǔ)物箱抽真空。可選地，用戶也可用外接真空泵替代。舒適的手動(dòng)鎖定裝置和放氣閥允許對(duì)儲(chǔ)物箱進(jìn)行獨(dú)立的抽真空和放氣控制。額外的標(biāo)準(zhǔn)真空腔室可有效地避免蒸碳和濺射金屬之間的交叉污染。
ET-010等離子刻蝕單元在對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜之或鍍膜之后，可以對(duì)樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍碳后進(jìn)行等離子處理，從而對(duì)碳膜表面進(jìn)行改性。
Coating-LAB軟件使用基于PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內(nèi)的處理數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚，鍍膜速率為實(shí)時(shí)曲線。便捷的軟件升和參數(shù)設(shè)置讓此智能工具更為完美。
RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件◎基于window的遠(yuǎn)程控制軟件◎創(chuàng)建和調(diào)用配方◎?qū)崟r(shí)圖表，包含導(dǎo)出功能（Excel、png等）◎自動(dòng)連接到設(shè)備
可選多種樣品臺(tái)CCU-010提供一個(gè)直徑不小于60mm的樣品臺(tái)，該樣品臺(tái)插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺(tái)支架上。可選其它用的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、行星臺(tái)、載玻片樣品臺(tái)等。
CCU-010 LV普通真空鍍膜儀版本作為真空鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)單元，CCU-010 LV 為 SEM 和 EDX 的常規(guī)高質(zhì)量濺射和/或碳鍍膜而設(shè)計(jì)。客戶可選擇：CCU-010 LV磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 LV熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 LV手套箱用鍍膜儀
SAMDRI-PVT-3D超臨界干燥儀
先進(jìn)的常規(guī)臨界點(diǎn)干燥儀
臨界點(diǎn)干燥原理之所以稱為臨界點(diǎn)干燥（又稱超臨界干燥），因?yàn)樗嬖跔顟B(tài)的連續(xù)性，即介質(zhì)在液態(tài)和氣態(tài)之間無(wú)明顯的區(qū)別，分界面的表面應(yīng)力降到零。這種現(xiàn)象具有特定的溫度和壓力，被稱為臨界點(diǎn)。零表面應(yīng)力這種條件可用于干燥生物樣品或含水材料樣品，避免了表面應(yīng)力對(duì)試樣的損壞。 我們?cè)陔娮语@微鏡(掃描電鏡透射電鏡)的生物樣品或含水材料樣品制備時(shí)經(jīng)常需要進(jìn)行脫水處理（梯度脫水），但水的臨界點(diǎn)為+374℃及3212 psi，很不方便并且容易損壞試樣。通常也是非常方便的臨界點(diǎn)干燥介質(zhì)為CO2，它的臨界點(diǎn)在+31℃及1072 psi。然而它不容易與水混合，因而必須用第三種介質(zhì)，通常用乙醇或丙酮作為中間液體。這樣在把過(guò)渡液體，即CO2 從液體轉(zhuǎn)為氣體時(shí)，在臨界點(diǎn)無(wú)表面應(yīng)力對(duì)樣品的破壞。
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
❖ 緊湊的桌上型設(shè)備，占用空間小
❖ 通過(guò)微流量閥實(shí)現(xiàn)精確流量控制，游標(biāo)刻度支持可重復(fù)的流量設(shè)置
❖ 便捷的頂裝式工作腔室
❖ 帶可視窗口，可觀察腔室內(nèi)部狀態(tài)
❖ 裝有顆粒過(guò)濾器，保護(hù)樣品和閥門(mén)
❖ 內(nèi)表面材質(zhì)耐用于液態(tài)CO2和超純乙醇環(huán)境
❖ 自動(dòng)臨界點(diǎn)溫度-壓力調(diào)節(jié)，確保系統(tǒng)安全
❖ 快速冷卻腔室（室溫下約1分鐘）
❖ 可選配冷凝器，收集廢棄乙醇，并消除置換排放時(shí)的噪音
主要技術(shù)規(guī)格
➢ 工作腔室直徑：1.25"I.D.
➢ 溫度測(cè)量范圍：-30 °C to 60 °C
➢ 壓力測(cè)量范圍：0 to 2,000psi.
➢ 控溫方式：全自動(dòng)溫度、壓力控制
➢ 放氣方式：微流量閥精確控制
常規(guī)配置
✓ 柔性編織不銹鋼耐高壓管，用于輸送液態(tài)CO2
✓ 外部液態(tài)CO2過(guò)濾系統(tǒng)，可去除水/油及小顆粒
✓ 排氣管，用于PURGE/VENT/BLEED和COOL時(shí)的排氣
✓ 備用腔室O型密封圈、腔室燈和保險(xiǎn)絲
注：美國(guó)Tousimis產(chǎn)品已有近50年的歷史，在中國(guó)客戶中的口碑非常好。覃思科技是其CPD超臨界干燥儀中國(guó)區(qū)代理。Tousimis臨界點(diǎn)干燥儀產(chǎn)品分為非潔凈室版本和潔凈室版本兩大類(lèi)，者常用于電鏡制樣，后者多用于超凈間內(nèi)的材料研究用途；
非潔凈室版本共有7款CPD：
1）Samdri®-PVT-3D常規(guī)臨界點(diǎn)干燥儀
2）Samdri®-795半自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
3）Autosamdri®-815 Series A全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
4）Autosamdri®-815B Series A全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
5）Autosamdri®-931_1.25"觸摸屏全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
6）Autosamdri®-931_2.50"觸摸屏全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
7）Autosamdri®-931_3.40"觸摸屏全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
潔凈室版本共有9款CPD：
1）Autosamdri®-815 Series B全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀For Die & 1”Wafers
2）Autosamdri®-815B Series B全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀For 4”Wafers
3）Automegasamdri®-915B, Series B全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀For 6”Wafers
4）Autosamdri®-931_1.25"觸摸屏全自動(dòng)多用途臨界點(diǎn)干燥儀
5）Autosamdri®-931_2.50"觸摸屏全自動(dòng)多用途臨界點(diǎn)干燥儀
6）Autosamdri®-931_3.40"觸摸屏多用途全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀
7）Autosamdri®-934觸摸屏C系列全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀For 4”Wafers
8）Automegasamdri®-936觸摸屏C系列全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀For 6”Wafers
9）Automegasamdri®-938觸摸屏C系列全自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀For 8”Wafers
美國(guó)Tousimis超臨界干燥儀廣泛適用于生物樣品，凝膠等具有微納米3D結(jié)構(gòu)的脆弱復(fù)雜樣品，以及MEMS、MOF、碳納米管、石墨烯、半導(dǎo)體晶圓（大樣品尺寸8英寸，一次同時(shí)干燥5片）等材料類(lèi)樣品的臨界點(diǎn)干燥。利用CO2臨界點(diǎn)狀態(tài)無(wú)液相表面張力引起樣品皺縮變形的原理獲取具有真實(shí)形貌的干燥樣品，是含水或其它液體的細(xì)胞組織等生物樣品、半導(dǎo)體等材料樣品干燥制樣的有效方法；具有操作簡(jiǎn)便、控制精確、結(jié)果可重復(fù)等特點(diǎn)。其中，經(jīng)典的SAMDRI®-PVT-3D和屢獲殊榮的Autosamdri®-931高觸摸屏全自動(dòng)CPD等型號(hào)尤其令人矚目。客戶可基于不同的應(yīng)用選擇不同的型號(hào)。