超聲波清洗機 主要性能及特點:
數顯設定超聲工作頻率數顯設定超聲功率50-100%數顯設定加熱溫度和實際溫度儀器具有低水位,無溶液保護指示儀器網架采用不銹鋼網師氬焊成型數顯設定超聲頻率轉換時間儀器的程序采用單片機軟件儀器的內外殼體采用不銹鋼儀器采用電控進水,排液功能
| 型號 | 內槽尺寸 | 容量 | 超聲頻率 | 超聲功率 | 功率可調 | 加執功率 | 溫度范圍 | 時間范圍 | 排水 | 降音蓋 | 網架 | 價格 |
| KH1000SP | 600＊300＊288 | 52 | 25/40/80 | 1000 | 50-100 | 1000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無 | 有 | |
| KH1000SPV | 600＊300＊288 | 52 | 25/40/80 | 1000 | 50-100 | 1000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 | |
| KH1500SP | 700＊400＊288 | 80 | 25/40/80 | 1500 | 50-100 | 1500 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無 | 有 | |
| KH1500SPV | 700＊400＊288 | 80 | 25/40/80 | 1500 | 50-100 | 1500 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 | |
| KH2000SP | 800＊500＊288 | 115 | 25/40/80 | 2000 | 50-100 | 2000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無 | 有 | |
| KH2000SPV | 800＊500＊288 | 115 | 25/40/80 | 2000 | 50-100 | 2000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 | |
| KH3000SP | 900＊600＊288 | 170 | 25/40/80 | 3000 | 50-100 | 3000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無 | 有 | |
| KH3000SPV | 900＊600＊288 | 170 | 25/40/80 | 3000 | 50-100 | 3000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 |
KQ系列臺式雙頻恒溫數控超聲波清洗器 超聲發生源與清洗槽為一體的雙頻恒溫數控超聲波清洗器，國際、國內首創。突破了幾十年來的超聲液溫根據超聲時間長短、功率大小、密封程度來決定升溫快慢，溫度的高低。采用了加熱與制冷二種設備自動轉換，超聲頻率自動轉換，達到了超聲液溫的精確度及超聲連續工作不升溫，工件上不同性質的污垢得到的清洗，成功的克服了洗凈上的。主要適用于工礦企業、大專院校、科研單位的對液溫精確度很高的清洗、脫氣、消泡、乳化、混勻、置換、提取、粉料粉碎及細胞粉碎。
主要性能及特點：數顯產品的出廠日期，實現合理“三包” 數顯記憶和設定的超聲頻率 數顯記憶和設定的超聲工作時間 數顯記憶和設定的恒溫溫度和實際溫度 數顯低水位、無溶液保護批示 清洗器的每個雙頻超聲換能器發射功率為50W 溶液過濾采用恒溫數控裝置 清洗器網架采用不銹鋼網篩氬焊成形 降音蓋采用不銹鋼板及耐腐蝕密封條 數顯累計工作時間，實現合理“三包” 數顯記憶和設定的超聲頻率自動轉換時間1-999秒 數顯記憶和設定的超聲功率 數顯超電壓、超電流保護指示 儀器的操作程序采用單片機軟件 儀器累計工作時間達999999小時 清洗器的排液功能采用不銹鋼球閥 清洗器內槽采用不銹鋼板沖壓成形 清洗器的降音蓋、外殼采用不銹鋼板
一、 SBQX全自動多功能清洗機是我公司科研人員經科學研究，研制開發出清洗石油采樣所用的取樣桶（器）和取樣杯等容器的專用清洗設備。該產品采用自動化控制,性能優良、安全、效果清潔、操作方便，節能環保，可最大限度的減輕化驗人員勞動強度，杜絕了化學清洗劑、溶劑油、汽油的使用，因而是綠色的、健康的、環保的,與老式清洗工藝相對比節約成本95%以上，是石油、化工等單位理想的清洗設備。填補了我國石油取樣桶（器）清洗技術的一項空白。本設備是通過清洗頭所噴出的高溫高壓水，對石油取樣桶（器）及取樣蓋的內外表面進行清洗，清洗用水循環使用，每套只需1分鐘，無需任何添加劑。清洗時油水自動分離，便于原油回收。
二、
| 型號 | 規格 （套） | 控溫范圍 （℃） | 清洗時間 （M.S） | 工作電壓 （V） | 功率 （KW） | 水箱容量 （L） |
| SBQX-4Y | 4 | 0-80 | 0-99.99 | 220 | 2.0 | 40 |
| SBQX-6Y | 6 | 0-80 | 0-99.99 | 220 | 2.8 | 56 |
| SBQX-8Y | 8 | 0-80 | 0-99.99 | 220 | 3.2 | 72 |
| SBQX-10Y | 10 | 0-80 | 0-99.99 | 220 | 3.8 | 88 |
| SBQX-12Y | 12 | 0-80 | 0-99.99 | 220 | 4.5 | 106 |
FXH50/ZF腐蝕清洗機
腐蝕清洗設備主要用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴散前、CMP后、氧化前及光刻后等關鍵工藝的清洗。 我公司可生產手動、半自動及全自動刻蝕、清洗設備，以滿足2˝～8˝晶片各種工藝需求。 用戶可根據不同工藝選擇不同的工藝模塊。模塊有：一號液（SCⅡ）、二號液（SCⅢ）、稀釋氫氟（DHF）、快排沖水（QDR）、恒溫水浴緩沖刻蝕（BOE）、干燥（IPA）等。操作方式可分為全自動（PLC+觸摸屏）、半自動和手動方式。 專業為客戶做適用于各種場合的濕法刻蝕、清洗等設備。
腐蝕清洗機 刻蝕機 腐蝕清洗設備
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