干燥箱/烘箱產品及廠家
電熱干燥箱用于工礦企業，科研院校、大小醫院、醫藥衛生等實驗室對各種產品、試品進行烘培、干燥、固化、熱處理及其它方面的加熱。本系列產品采用數顯溫度調節儀進行溫度控制、控溫靈敏、操作簡便、性能可靠，數字直接顯示出工作溫度，直觀易讀。
更新時間:2025-05-17
電熱鼓風干燥箱采用鏡面不銹鋼內膽，最新p.i.d模糊邏輯處理控制器，獨立限溫報警系統，箱體左側有一直徑50mm測試孔，便于實驗操作與測量溫度
更新時間:2025-05-17
hmds涂膠機，hmds涂膠烤箱處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。效率高,液態涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。更加環保和安全，hmds是有毒化學藥品，人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽
更新時間:2025-05-17
hmds增粘劑烤箱，微影制程hmds涂布烘箱處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。
更新時間:2025-05-17
hmds真空烘箱采用微電腦智能控溫儀，具有設定，測定溫度雙數字顯示和pid自整定功能，控溫精度高。可根據不同試驗條件改變設定程序，溫度，真空度及試驗時間。
更新時間:2025-05-17
電線電纜真空干燥箱，線纜絕緣吸水真空試驗箱符合gb/t2951.13-2008等標準的要求。特別適合于對干燥熱敏性、易分解、易氧化物質和復雜成分物品進行快速高效的干燥處理。
更新時間:2025-05-17
百級潔凈烘箱，充氮潔凈烘箱是一種用于對于生產過程中用于產品對潔凈度高要求的加熱烘烤設備。本產品具有安全性好，潔凈度高,節能效果優，保溫性佳，溫度均勻性好。大多應用于烘烤光學、光電、光纖,精密電子及醫藥器材等欲烘烤物品的烘干或溫升處理等。
更新時間:2025-05-17
高溫烘箱定做，非標軌道烘箱性能特點:◆采用智能溫控儀表，操作方便；◆采用推車加導軌進出方式，方便超重物品進出烘箱；◆配有聲、光超溫報警及保護裝置；
更新時間:2025-05-17
半導體光刻烤箱，晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
更新時間:2025-05-17
500℃高溫烤箱、高溫燒結箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結。
更新時間:2025-05-17
無氧烘箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。
更新時間:2025-05-17
石膏鑄模烤箱，石膏模具烘烤設備可滿足精鑄優質的鋅合金模具要求，廣泛應用于汽車輪胎、航天等工業的高品質鋁制品。我們的烘箱的產品，符合國際企業對產品質量和文檔記錄設定的標準。
更新時間:2025-05-17
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱 潔凈度100級的潔凈熱處理hepa過濾器與前出風型水平層流循環方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。最小限度控制風速距離。
更新時間:2025-05-17
前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱，js-dhb180b無塵烘箱系用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風循環方式。雙風道循環結構，溫度場分布均勻，智能p.i.d溫控系統，得到高精度溫度控制。
更新時間:2025-05-17
無氧烘箱，防氧化高溫烤箱工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等。
更新時間:2025-05-17
流水線式干燥烘箱，非標隧道烘箱定做是連續式烘干設備，可持續不間斷地烘烤，提高產品生產效率，應用于輕工，電子，食品，化工，木業，機械等行業。
更新時間:2025-05-17
非標石膏模具烤箱，重型轉盤烤箱定做可滿足精鑄優質的鋅合金模具要求，廣泛應用于汽車輪胎、航天等工業的高品質鋁制品。我們的烘箱的產品，符合國際企業對產品質量和文檔記錄設定的標準。
更新時間:2025-05-17
半導體烤箱，wafer烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-05-17
hmds熏蒸機，hmds熏蒸烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-05-17
n2潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-05-17
半導體烘箱，n2半 導體烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、ic封裝、醫藥、實驗室等生產及科研部門。也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗
更新時間:2025-05-17
增粘劑烤箱，hmds烘箱將hmds涂到led、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-05-17
百級烤箱，百級充氮烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
高溫固化烤箱，百級無塵無氧烤箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-05-17
bcb膠高溫固化爐，bcb膠無氧固化烤箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-05-17
精密無氧化烘箱，無氧烤箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-05-17
無氧高溫烘箱，百級無氧烘箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-05-17
hmds真空烘箱，hmds鍍膜烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-05-17
bcb膠高溫固化烘箱、光刻膠固化烤箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-05-17
無塵烘箱，100級潔凈烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
pi 無塵烤箱，bcb固化烤箱是參照gb/t11158-1989，gb2423，2-1989干燥箱技術條件及國家相關標準研究制造，廣泛應用于電子液晶顯示，lcd,cmos,ic，醫藥實驗室等生產及科研部門
更新時間:2025-05-17
精密循環風烤箱，半導體硬烘烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。 也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗.
更新時間:2025-05-17
百級烘箱，百級無塵烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
hmds預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-05-17
百級潔凈烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-05-17
二極管潔凈烘箱，led氮氣烘箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-05-17
無塵烘箱，不銹鋼無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
hmds烘箱真空泵，hmds系統用油泵 在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將hmds涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-05-17
可編程潔凈烘箱，程序無塵烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-05-17
固化烤箱，pi、bcb膠固化烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個箱體結構分為：膛體組件、箱架組件和熱風組件三個部分，膛體腔，內表面全鏡面設計，風道由左、右、后導風板與箱體內壁組合而成，膛體頂部有排風管道。
更新時間:2025-05-17
晶圓無氧烘箱，藍寶石厭氧烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全
更新時間:2025-05-17
led潔凈烘箱，lcd充氮烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全
更新時間:2025-05-17
無塵烘箱，class 100潔凈烘箱，無塵高溫烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、led、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-05-17
12寸hmds真空烤箱，芯片hmds烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-05-17
潔凈烘箱，氮氣潔凈烘箱，充氮烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態。
更新時間:2025-05-17
hmds烘箱、hmds預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
更新時間:2025-05-17
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