濕法清洗設備產品及廠家
這是一款專為半導體制造設計的精密清洗設備，集成化學濕法、超聲波及兆聲波技術，用于去除治具表面的光刻膠殘留、顆粒、金屬污染及氧化層。其采用模塊化設計，支持單片或批量處理，兼容6-12寸晶圓治具，配備在線顆粒計數與干燥系統（如真空或ipa替代），確保潔凈度達iso 3級以上。設備具備溫度/時間控制、耐腐蝕腔體及數據追溯功能，適用于光刻、蝕刻后治具的高效清潔，防止缺陷傳遞至芯片制程。
更新時間:2025-06-16
半導體清洗機設備集化學濕法、超聲波/兆聲波物理清洗及自動化控制于一體，實現納米級顆粒、有機物和金屬污染的高效去除，兼容多制程工藝需求，確保晶圓表面潔凈度與良率。
更新時間:2025-06-16
該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、n2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。
更新時間:2025-06-13
該系列設備是晶圓cmp后的用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、n2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于各類cmp后晶圓的清洗。
更新時間:2025-06-13
高效的緊湊型清洗裝置，為您的流程提供支持977晶圓清洗機系統為切割后工件清洗和干燥而設計，配有旋轉卡盤臺、旋轉清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿足各種清潔度要求。
更新時間:2025-06-13
waferstorm平臺是先進封裝、mems、射頻、數據存儲和光子學市場中許多關鍵溶劑型工藝的行業選擇。有 2 個版本——手動加載 （ml） 和 3300 系列平臺。ml系統非常適合研發和試驗環境。3300 系列平臺是該行業的大批量主力軍。
更新時間:2025-06-13
高密度等離子體刻蝕設備系統采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統配備了真空盒室，是一套完整的生產系統，具有優良的工藝重復性和穩定性。
更新時間:2025-06-13
samco 的 rie-800ipb 是一種電感耦合等離子體刻蝕設備，使用高密度等離子體進行 mems 和 tsv 應用所需的深度硅蝕刻。rie-800ipb是為bosch工藝設計的用硅蝕刻系統（由robert bosch gmbh授權）。該系統的反應室、電、平臺和真空設計克服了在競爭系統中遇到的問題，可實現高速(約50 μm/min)、無傾斜、高剖面蝕刻，具有行業先的
更新時間:2025-06-13
設備介紹:本設備為柜體式腐蝕機,整臺設備均采用進口件.基本材質:箱體材質:德國茲白色聚丙烯(pp) 門板材質:德國透明聚氯乙烯(pvc)腐蝕槽材質:德國自然色聚偏二佛乙烯(pvdf)清洗槽材質:德國自然色聚丙烯板(npp)腐蝕槽配有美國聚四佛乙烯加熱器,虹吸上排,傳感器清洗槽配有溢流裝置和n2鼓泡裝置整機外形美觀,實用
更新時間:2025-06-13
本設備的設計、選購、制造、檢驗和測試均按照相關國家、半導體行業標準（semi-s2-93）執行，iso9001質量管理體系進行規范和保證，但合同中或技術文件中另有規定的除外。外購配件執行相應的國家標準、行業標準、規范及企業標準。
更新時間:2025-06-13
gama系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋rca、pr strip、solvent、wet etch等應用，可用于典型0.35um、0.18um工藝節點，可支持90nm工藝節點，可兼容6寸和8寸晶圓。
更新時間:2025-06-13
pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到指定位置，可同時傳送50片，工藝模塊用于清洗和蝕刻，藥液供給模塊用于高精度藥液配比、加熱、供給、濃度監測。
更新時間:2025-06-13
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭真探頭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-05-19
北京信源天恒科技有限公司現貨供應本多音壓計 本多聲壓計 本多超聲波音壓計 本多超音波音壓計，歡迎選購。型號：hus-3+hus-5 sps（石英直型傳感器/探頭）；hus-3+hus-5 spl （石英l型傳感器/探頭）；hus-3+hus-5 sus（不銹鋼直型傳感器/探頭）； hus-3+hus-5 sul（不銹鋼l型傳感器/探頭）。
更新時間:2025-04-03
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更新時間:2025-04-03
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更新時間:2025-04-03
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更新時間:2025-04-03
北京信源天恒科技有限公司現貨供應本多清洗機兆聲波清洗機w-357-1mpg，標稱頻率1mhz
更新時間:2025-04-03
北京信源天恒科技有限公司現貨供應本多清洗機噴頭式清洗機 噴淋式清洗機兆聲波清洗機w-357-1.5mpg，標稱頻率1.5mhz
更新時間:2025-04-03
北京信源天恒科技有限公司現貨供應本多清洗機噴頭式清洗機 噴淋式清洗機兆聲波清洗機w-357-3mpg，標稱頻率3mhz
更新時間:2025-04-03
北京信源天恒科技有限公司現貨供應本多清洗機噴頭式清洗機 噴淋式清洗機兆聲波清洗機w-357-04pg，標稱400khz
更新時間:2025-04-03
日本進口本多（honda）w-357bm系列兆聲波清洗機 振板式 槽式可非標定制適用領域：半導體、硅片、藍寶石晶片、電子、光學、液晶用途：工業、實驗室頻率：1mhz；功率：600w、1200w
更新時間:2025-04-03
日本進口本多（honda）w-357bm系列兆聲波清洗機 振板式 槽式可非標定制適用領域：半導體、硅片、藍寶石晶片、電子、光學、液晶用途：工業、實驗室頻率：1mhz；功率：600w、1200w
更新時間:2025-04-03
本多w-357lm系列清洗機為高頻清洗機，水幕式，水簾式此系列產品具有多種型號，w-357lm-80，w-357lm-180，w-357lm-380，w-357lm-580，可根據實際需求選取合適的型號。適用領域：實驗室、半導體、硅片、晶圓、藍寶石晶片、電子、光學、液晶等多種行業。
更新時間:2025-04-03
本多w-357lm系列清洗機為高頻清洗機，水幕式，水簾式此系列產品具有多種型號，w-357lm-80，w-357lm-180，w-357lm-380，w-357lm-580，可根據實際需求選取合適的型號。適用領域：實驗室、半導體、硅片、晶圓、藍寶石晶片、電子、光學、液晶等多種行業。
更新時間:2025-04-03
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更新時間:2025-04-03
本多w-357lm系列清洗機為高頻清洗機，水幕式，水簾式此系列產品具有多種型號，w-357lm-80，w-357lm-180，w-357lm-380，w-357lm-580，可根據實際需求選取合適的型號。適用領域：實驗室、半導體、硅片、晶圓、藍寶石晶片、電子、光學、液晶等多種行業。
更新時間:2025-04-03
本多低頻超聲波清洗機wv-231s，為一體式清洗機，250w，40khz適用于實驗室等
更新時間:2025-04-03
本多w-338mk-ii一體式超聲波清洗機，低頻超聲波，臺式，可放置于桌面，適用于實驗室等適用于實驗室等
更新時間:2025-04-03
w-113mk-ii一體式超聲波清洗機，低頻超聲波，臺式，可放置于桌面，適用于實驗室等適用于實驗室等
更新時間:2025-04-03
wt-200-m一體式超聲波清洗機，低頻超聲波，臺式，可放置于桌面，適用于實驗室等
更新時間:2025-04-03
wt-300-m一體式超聲波清洗機，低頻超聲波，臺式，可放置于桌面，適用于實驗室等此系列清洗機有wt-100-m ，wt-200-m ，wt-300-m 三種型號可選
更新時間:2025-04-03
本多ws系統清洗機 低頻 超聲波 振板式 槽式 分體式本系列清洗機型號有ws-600-28，ws-600-40，ws-600-75，ws-1200-28，ws-1200-40
更新時間:2025-04-03
本多ws系統清洗機 低頻 超聲波 振板式 槽式 分體式本系列清洗機型號有ws-600-28，ws-600-40，ws-600-75，ws-1200-28，ws-1200-40
更新時間:2025-04-03
本多ws系統清洗機 低頻 超聲波 振板式 槽式 分體式本系列清洗機型號有ws-600-28，ws-600-40，ws-600-75，ws-1200-28，ws-1200-40
更新時間:2025-04-03
本多ws系統清洗機 低頻 超聲波 振板式 槽式 分體式本系列清洗機型號有ws-600-28，ws-600-40，ws-600-75，ws-1200-28，ws-1200-40
更新時間:2025-04-03
本多ws系統清洗機 低頻 超聲波 振板式 槽式 分體式本系列清洗機型號有ws-600-28，ws-600-40，ws-600-75，ws-1200-28，ws-1200-40
更新時間:2025-04-03
wsc系統超聲波清洗機特點：wsc系列清洗機的調制效果可讓am調制對負載(工件、液類、液深)變動的承受能力強;fm調制保持槽內的超聲波均勻,因而實現高效均勻的清洗。此系列清洗機有振板式和槽式兩種；適用于電子行業、航空航天、機械設備、醫療等領域
更新時間:2025-04-03
wsc系統超聲波清洗機特點：wsc系列清洗機的調制效果可讓am調制對負載(工件、液類、液深)變動的承受能力強;fm調制保持槽內的超聲波均勻,因而實現高效均勻的清洗。此系列清洗機有振板式和槽式兩種；適用于電子行業、航空航天、機械設備、醫療等領域
更新時間:2025-04-03
本多（honda）超聲波清洗機 wd系列類型：振板式、槽式適用領域：半導體行業、機械行業、電子行業、醫療行業、鐘表首飾行業、光學行業、紡織印染等行業頻率：28khz、40khz，有四種發振模式功率：600w和1200w
更新時間:2025-04-03
本多（honda）超聲波清洗機 wd系列類型：振板式、槽式適用領域：半導體行業、機械行業、電子行業、醫療行業、鐘表首飾行業、光學行業、紡織印染等行業頻率：28khz、40khz，有四種發振模式功率：600w和1200w
更新時間:2025-04-03
本多（honda）超聲波清洗機 wd系列類型：振板式、槽式適用領域：半導體行業、機械行業、電子行業、醫療行業、鐘表首飾行業、光學行業、紡織印染等行業頻率：28khz、40khz，有四種發振模式功率：600w和1200w
更新時間:2025-04-03
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