大氣顆粒物采樣器產品及廠家
賽默飛exploris480作為革命性全新一代組合型超高分辨質譜系統，賽默飛themoscientific高分辨質譜儀orbitrapexploris480占用的空間更小，同時保持了高分辨率、高質量精度和圖譜質量。新儀器具有很多新特性，可以延長正常運行時間，并在高通量分析試驗中提高超強穩定性。其結合成熟的技術，先進的功能和智能驅動分析框架為研究科學家更廣泛應用質譜進行高通量的蛋白質鑒定、定量和結構表征。全新的surequant及boxcar方法包為超敏感目標蛋白定量提供強大助力
更新時間:2025-06-13
德國allresist正電子束光刻膠ar-p6200(csar62)，高分辨率，用于生產集成電路和掩模的高對比度電子束電阻。電子束;層thickn。0,05-1,6evm(6000-1000rpm)，高靈敏度，可通過開發人，高分辨率(<10nm)和非常高的對
更新時間:2025-06-13
德國allresist防護涂層pmmaelectra92(ar-pc5090)，用于非氮基電子束電阻的導電保護涂層，用于在絕緣襯底上耗散電子束電荷的頂層。
更新時間:2025-06-13
microchem光刻膠su-82000系列永久性環氧負性光刻膠:su-82025,su-82035,su-82050,su-82075，su-82000是一種高對比度的環氧樹脂基光刻膠，適用于微加工和其他微電子應用域，需要厚、化學和熱穩定的圖像。su-82
更新時間:2025-06-13
德國allresist正電子束光刻膠ar-p610系列，用于納米光刻的ar-p617電子束電阻，共聚物抗蝕劑系列用于生產集成電路和掩模。
更新時間:2025-06-13
英國emresist電子束光刻膠smlresist,sml50,sml100,sml300,sm600,sml1000,sml2000
更新時間:2025-06-13
e-beam電子束光刻膠：hsqxr-1541-006,z520,pmma,。ebl6000系列，ma-n2400系列。納米壓印膠：mr-nil6000e,mr-l900m,mr-uvcur21。光固化膠：ormo系列。
更新時間:2025-06-13
德國allresist特殊工藝用光刻膠，電子束曝光導電膠，耐酸堿保護膠，聚酰亞胺膠（耐高溫保護膠），全息光刻用膠，長波曝光膠，深紫外曝光膠等特殊工藝用膠。
更新時間:2025-06-13
德國allresist電子束光刻膠（電子束抗蝕劑）e-beamresist電子束正膠：pmma膠，pmma/ma聚合物，liga用膠等。電子束負膠：高分辨率電子束負膠，化學放大膠（高靈敏度電子束膠）等。
更新時間:2025-06-13
美國rkd化學開封機eliteetch7000機器尺寸(mm)：190x320x305溫度范圍1)發煙硫酸：25c-250c2)發煙硝酸：25c-90c3)混酸：25c-100c(eliteetch)4)混酸(利)：10c-100c(eliteetchcu)抽酸流量:1-8ml/minute蝕刻頭組件:固定式碳
更新時間:2025-06-13
eppendorf5810/5810r離心機以其一貫品質和可靠性能，為您中等到高通量離心提供最佳解決方案。5810/5810r離心機不僅具有功能多和容量大的基本特點，而且占地面積小，可以離心各類試管和工作板。
更新時間:2025-06-13
wiggens離心機全部由德國oem工廠按照設計要求定制生產。德國工廠具有30多年專業生產離心機和其它生物科學產品的經驗，擁有多項相關技術領域的專利。wiggens離心機產品齊全，型號多樣，叢小型臺式離心機到大型落地式離心機，最高轉速達16500rpm，最大容量可達3l，多種角轉子、水平轉子、垂直轉子可選。
更新時間:2025-06-13
qsight三重四極桿液質聯用儀具有自清潔功能的專利設計，減少對日常維護的需求。與其他質譜產品相比，可獲得更多的儀器運行時間（35天/年）。采用雙離子源的設計，避免了多路聯用方法開發的復雜性，擁有更短的樣品運行時間，從而提高了生產效率。同時，利用真空壓力差產生層流傳輸離子，具有更好的靈敏度和系統穩定性，從而無需樣品濃縮，并獲得更高的重現性。
更新時間:2025-06-13
xevotq-s為最嚴苛的uplc/ms/ms定量應用而設計。串聯四極桿質譜儀的終極性能讓使用xevo平臺的所有人獲得無可比擬的靈敏度和穩定性。
更新時間:2025-06-13
thermoscientifictmtsqquantumultratm是賽默飛設計精良的經典三重四極桿質譜儀，集定量分析所需求的靈敏度、選擇性和重復性于一體。可用于食品、生物基質等復雜體系痕量成分的準確定量，是tsqquantum家族中的高端產品。
更新時間:2025-06-13
離子色譜分析系統（ic-2010）采用了東曹自行開發的凝膠抑制方式，是搭載了自動進樣器的一體化高性能離子色譜儀分析系統。簡單的操作系統與專用高分辨率色譜柱的完美結合，可以高速，高靈敏度并且簡便地測定陰離子和陽離子。此外，配備的專用系統控制及數據解析的離子色譜工作站，更提供了極為簡便地儀器控制功能以及高可信度的測定環境。
更新時間:2025-06-13
thermoscientificdionexics-5000+hpic高壓離子色譜：世界上首款毛細管高壓、“只加水”離子色譜系統。全新的模塊設計具有極大的靈活性、功能更全面，操作更簡便，其完美卓越的性能將色譜分析帶入一個新的更高境界，分辨率更佳，分析速度更快。通過毛細管系統以及分析系統整合組成的ics-5000+高壓離子色譜系統，能應對未來潛在的挑戰以及高級應用，該系統提高了工作效率，擴展了工作能力、提高了色譜性能。
更新時間:2025-06-13
940系列譜峰思維tm離子色譜儀的出現，標志著離子色譜新時代的到來。該系列離子色譜儀在保障非常好系統可靠性和非常簡便儀器可操作性的同時，還為客戶提供非常靈活的系統定制方案。它是迄今非常靈活、可信、簡便的離子色譜系統。
更新時間:2025-06-13
thermoscientificdionexintegrion（in）hpic，系統采用viper接頭、合理的流式管路布局和靈活配置，專門圍繞實驗室中的流程難題而直觀設計、精心打造。高效dionexionpac4μm離子色譜柱。更高分辨率、更快分析速度挑戰分離極限。小顆粒可以在較寬的流速范圍內提供更高的柱效。
更新時間:2025-06-13
島津長久以來一直致力于提高hplc的分析性能。同時，島津認識到，整體效率不僅取決于某一臺儀器的性能，更需要統籌管理實驗室內的所有設備。如今，在這個將人工智能（ai）整合到儀器設備中的時代，島津解決方案切實實現了真正意義上自動檢測。此外，通過物聯網（iot）與儀器設備進行網絡化集成，將使實驗室管理變得更加直觀，儀器狀態確認更加簡便，資源配置得以更加優化。
更新時間:2025-06-13
“chromaster”是一個新造詞，取自英文單詞chromatograph（色譜）和master（大師）。這個詞表達了日立公司的一個美好愿景，那就是開發和提供一套頂級的、性能卓越的液相色譜系統。作為一個強有力的工具，它將為那些受過專業訓練、“大師級”的色譜工作者做出更大貢獻！
更新時間:2025-06-13
具備集成智能功能的agilent7890b氣相色譜系統以安捷倫40多年的氣相色譜經驗為基礎。7890b氣相色譜系統的先進功能可幫助用戶在更短的時間內獲得更多的分析結果，其高質量設計和可靠性可保證系統在未來數年內始終處于高性能水平。
更新時間:2025-06-13
ellutia新型快速氣相色譜儀，采用專利的毛細管柱直接加熱技術，無需配備柱溫箱，即可實現色譜柱的快速加熱和冷卻效果。與傳統氣相色譜以“分”來計算運行時間不同，這是一種真正意義上的快速氣相色譜，運行時間可用“秒”來計算！
更新時間:2025-06-13
agilentintuvo9000氣相色譜系統徹底改變了用戶執行氣相色譜分析的方式，開辟了全面提高運行效率和業務成果的新途徑。intuvo秉承了安捷倫氣相色譜的卓越性能和穩定性，并采用重要的關鍵創新技術，一舉打破了現有的重重操作限制，大大簡化了操作、降低了運行成本并延長了儀器的正常運行時間。
更新時間:2025-06-13
nexisgc-2030氣相色譜儀配備了全新智能交互界面，僅需觸屏即可完成儀器操作并可以實時了解儀器運行狀態。創新clicktek技術全面提升用戶分析體驗，使色譜柱的安裝和儀器維護進入徒手時代。檢測器靈敏度較之上一代產品有了進一步提升，可以進行高可靠性和高精度的痕量分析，使重現性更勝一籌。柱溫箱功能全面優化，使用效率有顯著提升的同時還使能耗有效降低。根據需求定制化系統更可以滿足個性化分析訴求。
更新時間:2025-06-13
全新一代axiachemisem掃描電鏡，采用獨特方法進行樣品成分信息的采集、處理和展示；依托先進鏡筒技術，保持系統始終處于最佳狀態，可聚焦樣品采集數據，隨時提供高質量圖像；采用全開門式設計，耐用性和靈活性更高；可搭載多款掃描電鏡軟件實現多種自動化功能；簡約化設計，全方面性能出色，可表征各種不同類型材料，提供最全面的信息。其成像平臺即時可用，集成獨特的實時定量能譜面分析功能，成像即刻并融合成分信息，專為快速分析而設計，操作輕松自如。
更新時間:2025-06-13
該臺式可見光分光光度計具有直觀的彩色觸摸屏操作界面，并可直接在屏幕上顯示哈希程序的操作提示。加上直觀的量程柱狀圖顯示，比色皿的自動識別和錯誤報警，以及新增的aqa功能等人性化設計都能為您帶來全新的使用體驗，減少了再次確認的額外工作，讓客戶對測試結果更有信心。dr3900臺式可見光分光光度計是市場上唯一既能夠涵蓋監管要求鏈、又能與在線儀器之間很好地關聯起來。可廣泛應用于工業，市政，環保，教育等領域
更新時間:2025-06-13
nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(lsc)系統，用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
更新時間:2025-06-13
nte-4000（m）熱蒸發系統概述：nano-masternte-4000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。
更新時間:2025-06-13
npe-3500pecvd等離子體化學氣相沉積系統概述：nano-masterpecvd系統能夠沉積高質量的sio2,si3n4,或dlc薄膜到最大可達12”直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。
更新時間:2025-06-13
plasmacleaner等離子清洗機npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master等離子刻蝕和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。np
更新時間:2025-06-13
rie反應離子刻蝕機nre-3500（a）全自動rie反應離子刻蝕機概述：獨立式rie反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷rf樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持最大到12"的晶圓片。
更新時間:2025-06-13
picomasterxf500-h是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創造微結構。獨有的全息設計軟件，提供了許多預先安裝的全息效果及其光柵、結構的運算方法，它們可以很輕松地將把這些效果組合起來，十分利于用戶的產品開發。同時軟件也允許用戶添加自己的算法和結構，來定制數據庫、完善產品設計。
更新時間:2025-06-13
picomaster200無掩模激光直寫光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業界最具實力的成套全息設計軟件●最大230x230毫米基板尺寸picomaster200是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創建最高自由度的微結構而設計。
更新時間:2025-06-13
dymax5000-ec系列紫外光固化面光源適用于固化光強需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
更新時間:2025-06-13
品牌：恩科優（n&q）型號：nxq800-6產地：美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，n&q8000系列光刻機是以自動系統為主。該系統優越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統的首選。
更新時間:2025-06-13
品牌：恩科優（n&q）型號：nxq400-8產地：美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，n&q4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統優越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統的首選。
更新時間:2025-06-13
真空快速退火爐as-oneas-one是一種通用的rtp系統，可用于開發快速熱退火和快速熱cvd工藝。可以搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。最高溫度1500℃，最快升溫速率200℃/second。
更新時間:2025-06-13
紫外臭氧清洗工作原理：清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發或分解。激發的有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體，比如co2,h2o等。整個過程在室溫**發生，并且只需要1到幾分鐘完成。
更新時間:2025-06-13
原子層沉積（atomiclayerdeposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
更新時間:2025-06-13
適用于3英寸晶圓的劃片劃片機100是一款獨特的設備，設計用于劃分精密模具，例如gaas和硅芯片。劃片機100非常靈活，使用劃線和斷裂順序，使成品模具保持清潔，不受損壞。
更新時間:2025-06-13
m-hp200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑最大為8英寸的晶圓片或最大6英寸x6英寸的襯底。內置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數（溫度，加熱時間）可以隨時更改。熱板溫度可在20c和250c之間調節。可在1到999秒之間設置處理時間。
更新時間:2025-06-13
勻膠顯影機(英文名：developing)產地：美國一、產品概述：650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
更新時間:2025-06-13
benchtopplasmacleaner小型等離子清洗系統pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的主導者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
更新時間:2025-06-13
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